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勻膠機旋涂儀主要用于微加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中的光刻、烘焙和其他設(shè)備，如硅芯片和陶瓷芯片上的均化膠。均勻膠旋涂儀器價格低廉，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，為實驗室提供了理想的解決方案。它可以在很大程度上確保均勻的旋涂；可以旋涂不同尺寸的基材。勻膠機旋涂儀通過在片材保持器上產(chǎn)生負壓來吸收待旋涂在片材固定器上的基材，并且膠滴到基材表面上。離心力通過精確調(diào)節(jié)電機的轉(zhuǎn)速而改變。同時，膠水流由滴膠裝置控制，以達到薄膜制備所需的厚度。此外，膜厚度還取決于環(huán)境因素，如...

紫外清洗機不需要任何溶劑，也不會損壞清潔表面。去除大多數(shù)無機基板中的有機污染物。該清洗機提供了一種高效、精確的清洗方法，也是一種非常重要的表面改性技術(shù)。應(yīng)用于表面處理、有機清洗、提高表面親水性、降低表面接觸角、增加表面附著力、增強表面功函數(shù)等。紫外清洗機的工作原理：通過產(chǎn)生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子(污染物)。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發(fā)表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短...

實驗室等離子清洗機是一項新的高科技技術(shù)，它使用等離子來達到傳統(tǒng)清洗方法無法達到的效果。等離子清洗機應(yīng)用廣泛。接下來就給大家介紹一下實驗室等離子清洗機的優(yōu)勢有哪些？實驗室等離子清洗機的設(shè)備優(yōu)勢：1、等離子體清洗后，清洗對象干燥，無需進一步干燥即可進入下一工序。可以提高整個工藝管線的處理效率；2、等離子清洗使用戶避免了有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗時清洗物易清洗的問題；3、避免使用有害的ODS溶劑，如三氯乙烷，以免清洗后產(chǎn)生有害污染物。因此，這種清潔方法是一種環(huán)保的綠...

紫外清洗機通常用于掃描探針顯微鏡的樣品應(yīng)用。可用于原子力顯微鏡探頭、掃描探針顯微鏡標準探頭、表面常規(guī)油層及殘留無機材料的清洗。它還可用于改變物體表面的疏水性，這有利于零件和表面的化學(xué)改性。紫外清洗機的保養(yǎng)要點：1、使用紫外線滅菌器的最佳條件水溫：5℃-50℃；相對溫度：不超過93%；電壓：220±10v50hz；進入處理設(shè)備的飲用水水質(zhì)具有95%-100%的透射率。如果待處理水質(zhì)低于國家標準，如色度高于15度，濁度高于5度，鐵含量高于0.3mg/L，應(yīng)先采用其他...

勻膠機旋涂儀廣泛應(yīng)用于MEMS微加工、生物、材料等領(lǐng)域。它可用于制備厚度小于10nm的薄膜。它也常用于厚度約為1-100微米的光刻膠沉積層的光刻工藝中。許多平面基板材料可用于涂層，如半導(dǎo)體硅片、載玻片、晶片、基板、ITO導(dǎo)電玻璃等。勻膠機旋涂儀的工作原理：通過在晶片支架上產(chǎn)生負壓，待旋涂的基材吸附在晶片架上，膠水滴在基材表面。通過精確調(diào)節(jié)電機的轉(zhuǎn)速來改變離心力。同時，滴膠裝置控制膠水的流速，以達到制備薄膜所需的厚度。此外，涂膜厚度還取決于旋涂時間、膠液粘度、涂膜溫度和濕度等環(huán)...

控溫勻膠機的操作使用：1、選擇適合的片托，略小于樣片尺寸，將缺口對準螺釘卡口，安裝牢固。2、開啟電源3、調(diào)節(jié)設(shè)置合適的勻膠時間轉(zhuǎn)速步驟。支持100組每組100步的程序設(shè)置和存儲調(diào)用。4、放片，并保證樣片處于載物盤正中心。5、開啟真空吸附，按下“真空”鍵開始吸附樣片。注意：真空狀態(tài)顯示，支持真空報警，真空錯誤電機停止工作。(PE型配備實時真空數(shù)值顯示)6、程序設(shè)置完畢按“執(zhí)行”鍵，電機旋轉(zhuǎn)，速度加速度連續(xù)可調(diào)轉(zhuǎn)速實時顯示。轉(zhuǎn)速時間曲線分析。7、滴膠，動作要迅速，要在低轉(zhuǎn)速時間內(nèi)...

實驗室涂膜機是指在基材上涂覆一層或多層涂層以形成固體連續(xù)薄膜的機器。使用精確控制的棒或涂膜器以選定的速度來回移動。由于試紙平滑地吸附在吸盤上，并且在涂覆期間添加到施工工具的剪切速率和重量保持不變，因此涂層膜的再現(xiàn)性大大提高。實驗室涂膜機解決的四個問題：1、超薄涂層涂布機的薄膜厚度不是由涂布機決定的，而是由涂布機上匹配的線材或制備裝置決定的。因此，線材和制備劑的精度對涂層的精度有著決定性的影響。在制備超薄薄膜時，一方面選擇線材的精度很高，另一方面，薄膜機的恒速恒壓打樣也會減少薄...